国产 EDA 新突破，东方晶源推出计算光刻云方案

2022-07-18 13:42:11.0

近日，东方晶源微电子科技（北京）有限公司（以下简称“东方晶源”）发布首款基于云端的 EDA 计算光刻平台 ——AeroHPO 全流程协同优化系统，成为国产 EDA 和一体化良率解决方案“云”部署商。
该系统沿用东方晶源自主研发、全球率先工程应用的“全芯片反向光刻掩模优化（ILT）”技术，同时依托于公有云平台，可为客户提供 28nm 及以下技术节点的制程建模、基于 ILT 的掩模优化、严格物理光刻仿真、设计规则与掩模规则检查（DRC / MRC）、光源掩模联合优化（IRO）、DPT 版图拆分及光刻性能检查（LRC）等全产品线功能与服务。